CVD 设备 Virtual Chamber 开发

在 2023 年 COMSOL 半导体制造主题日的主题演讲视频中，来自中微公司的严佑锐凌介绍了 COMSOL 多物理场仿真在 CVD 设备研发中的应用。CVD（chemical vapor deposition，化学气相沉积）是半导体制造过程中的一项重要工艺，涉及传热、流动、化学反应等多种物理现象的耦合。温度是工艺过程中的关键影响因素，因此对升温过程的控制是设备开发进程中的重要一环。本次演讲主要介绍使用 LiveLink™forMATLAB^®接口，建立起基于物理模型的 Virtual Chamber，实现了 CFD 模型与控制系统的联合仿真，在控制器的设计与改进、设备结构的优化、工艺结果的调整等方面发挥重要作用。