离子注入真空系统中的分子流
Application ID: 10011
“离子注入机计算器”App 分析离子注入系统的设计。离子注入在半导体工业中广泛用于将掺杂剂注入到晶片。
在离子注入机内，离子源内产生的离子经电场加速，获得所需的注入能量。通过磁分离方式使离子束弯曲，选择电荷状态合适的离子，从而确保只有特定荷质比的离子才能到达晶片。这一过程中离子束的能量剂量和角度都是关键参数。
通过该 App，用户可以更改晶片的角度以及除气物质的分子量、除气速率和表面温度。还可以调节低温涡轮泵的速度。
可以将数密度、压力、分子通量以及沿离子束线的平均数密度可视化。
案例中展示的此类问题通常可通过以下产品建模:
您可能需要以下相关模块才能创建并运行这个模型，包括：
建模所需的 COMSOL® 产品组合取决于多种因素，包括边界条件、材料属性、物理场接口及零件库，等等。不同模块可能具有相同的特定功能，详情可以查阅技术规格表，推荐您通过免费的试用许可证来确定满足您的建模需求的正确产品组合。如有任何疑问，欢迎咨询 COMSOL 销售和技术支持团队，我们会为您提供满意的答复。